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  • L2004A1Ossila公司接觸角測量?jì)x
    L2004A1Ossila公司接觸角測量?jì)x

    英國Ossila公司接觸角測量?jì)x為科學(xué)家們提供了一種快速、可靠且簡(jiǎn)便的測量液滴接觸角的方法。其價(jià)格經(jīng)濟,形體小巧,PC軟件直觀(guān)、操作便捷,使更多的研究人員能夠快速進(jìn)行這種多功能測量。廠(chǎng)家提供質(zhì)保期2年。

    時(shí)間:2023-05-23型號:L2004A1訪(fǎng)問(wèn)量:2379
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  • L2006英國Ossila浸漬提拉鍍膜機
    L2006英國Ossila浸漬提拉鍍膜機

    英國Ossila浸漬提拉鍍膜機性能,內置軟件,操作簡(jiǎn)單,價(jià)格經(jīng)濟,為科研領(lǐng)域工作者提供一款理想的適用于液相鍍膜制備而設計的精密儀器。目前在化學(xué)、材料科學(xué)的研究中,被廣泛應用于溶膠-凝膠(sol-gel)法薄膜材料制備。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面薄片材料鍍膜工藝,可以精準控制膜片提出速度,進(jìn)而控制涂層厚度,保證良好重復性。提供2年的質(zhì)保,為使用者提供更高的保障。

    時(shí)間:2023-05-23型號:L2006訪(fǎng)問(wèn)量:2699
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  • L2005英國Ossila小型狹縫涂布儀
    L2005英國Ossila小型狹縫涂布儀

    英國Ossila小型狹縫涂布儀結構緊湊,價(jià)格實(shí)惠,使用簡(jiǎn)單,準確度高。 對于那些希望在小型實(shí)驗室中擴大實(shí)驗工藝的用戶(hù)來(lái)說(shuō),它是理想之選。與卷對卷和片對片沉積工藝相兼容,狹縫涂布是用于可擴展沉積薄膜的技術(shù)之一。其廣泛的加工窗口確保穩定、無(wú)缺陷的沉積,適用于各種粘度的溶液。薄膜均勻度高,準確且可重復,厚度可通過(guò)改變流速和基材速度來(lái)控制。

    時(shí)間:2023-06-29型號:L2005訪(fǎng)問(wèn)量:2845
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  • L2001勻膠旋涂?jì)x
    L2001勻膠旋涂?jì)x

    英國Ossila公司勻膠旋涂?jì)x,操作簡(jiǎn)單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實(shí)驗室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng )新設計的非真空卡盤(pán)式旋涂吸盤(pán),無(wú)需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果。勻膠旋涂?jì)x可對大小不同規格的基材都可進(jìn)行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達到旋涂效果。不會(huì )出現真空吸盤(pán)旋涂較薄的基材襯底翹曲現象,影響涂層的均勻性。勻膠旋涂?jì)x廣泛應用于微電子、半導體、制版、新能源、生物材料、光學(xué)及表面涂覆等工藝。

    時(shí)間:2023-06-15型號:L2001訪(fǎng)問(wèn)量:2432
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  • L2001英國Ossila Spin Processor
    L2001英國Ossila Spin Processor

    英國Ossila SpinProcessor,操作簡(jiǎn)單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實(shí)驗室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng )新設計的非真空卡盤(pán)式旋涂吸盤(pán),無(wú)需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果??蓪Υ笮〔煌幐竦幕亩伎蛇M(jìn)行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達到完美的旋涂效果。不會(huì )出現真空吸盤(pán)旋涂較薄的基材襯

    時(shí)間:2023-05-23型號:L2001訪(fǎng)問(wèn)量:1740
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  • L20001英國Ossila-Spin Coater
    L20001英國Ossila-Spin Coater

    英國Ossila-Spin Coater操作簡(jiǎn)單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實(shí)驗室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng )新設計的非真空卡盤(pán)式旋涂吸盤(pán),無(wú)需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果??蓪Υ笮〔煌幐竦幕亩伎蛇M(jìn)行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達到較好的旋涂效果。不會(huì )出現真空吸盤(pán)旋涂較薄的基材襯底翹曲現象,影響涂層的均勻性。

    時(shí)間:2023-05-23型號:L20001訪(fǎng)問(wèn)量:1973
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  • L2002Ossila-UV Ozone Cleaner
    L2002Ossila-UV Ozone Cleaner

    UV Ozone Cleaner是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟,快速的材料表面清洗設備,只需把樣品放置到樣品盤(pán)上,關(guān)上艙門(mén),設置時(shí)間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數無(wú)機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí),紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!

    時(shí)間:2023-05-23型號:L2002訪(fǎng)問(wèn)量:2535
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  • PSDP-UVNovascan-UV Ozone Cleaner
    PSDP-UVNovascan-UV Ozone Cleaner

    Novascan-UVOzoneCleaner,PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗機增加了一個(gè)可控溫的加熱樣品臺,通過(guò)PID數字控制器精準反控加熱樣品臺溫度,控溫范圍可達150℃ (200℃可選配)。將PSDP-UV系列的清洗能力提升到了新的水平,能大程度的分解有機分子物質(zhì)。

    時(shí)間:2023-05-23型號:PSDP-UV訪(fǎng)問(wèn)量:3661
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