CIF-Spin Processor

Spin Processor旋涂勻膠機產(chǎn)品特點(diǎn)

v 采用閉環(huán)控制伺服電機，數字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長(cháng)，保證勻膠的均一性。

v 5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標配10個(gè)勻膠梯度階段（速度和時(shí)間梯度設置），可選配10個(gè)可編程程序，每個(gè)程序下可設置10個(gè)勻膠梯度階段，z多100個(gè)階段。

v 內置水平校準裝置，大限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規格的基片進(jìn)行旋涂。

v 多重安全保護:

» 電磁安全開(kāi)關(guān)，蓋子打開(kāi)卡盤(pán)停止，保證安全；

» 蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開(kāi)傷人；

» 雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，大限度保證實(shí)驗人員安全。

v 樣品托盤(pán)卡口和樣品托盤(pán)之間三重密封安全保護，有效降低電機進(jìn)膠的風(fēng)險。

v 一機兩用，根據不同樣品可選真空吸盤(pán)和非真空卡盤(pán)兩種旋涂方式。

v 符合人體功能學(xué)的水平取放樣品旋涂托盤(pán)設計，取放樣品更方便。

v 不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，旋涂腔體采用PTFE材料。旋涂托盤(pán)采用聚丙烯（NPP-H）材料，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。

v 上下雙腔體設計，較大的上腔體便于擦拭去除膠液，錐形下腔體結構設計便于收集膠液，并帶廢膠收集裝置

v 可選氮氣吹干、氮氣保護，自動(dòng)滴膠或簡(jiǎn)易滴膠裝置，提供更多的操作便利性。

v 適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。

　　勻膠機是一種常見(jiàn)用于材料薄膜制備工藝的實(shí)驗室設備，它的原理相對比較簡(jiǎn)單，利用電機高速旋轉時(shí)所產(chǎn)生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面，顧名思義，一種可以“讓膠液均勻涂敷的機器”。勻膠機有很多稱(chēng)謂，勻膠臺，旋轉涂膜機，旋轉涂層機或者旋轉涂敷機等等，它的英文是Spin Processor：旋轉涂膜的意思。

　　勻膠過(guò)程中基片的加速度也會(huì )對膠膜的性能產(chǎn)生影響。因為在基片旋轉的階段，光刻膠就開(kāi)始干燥（溶劑揮發(fā)）了。所以準確控制加速度很重要。在一些勻膠過(guò)程中，光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過(guò)程開(kāi)始的幾秒鐘內揮發(fā)掉了。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠，加速度對膠膜質(zhì)量同樣起重要作用。在許多情況下，基片上已經(jīng)由前面工序留下來(lái)的精細圖形。因此，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過(guò)程總是對光刻膠產(chǎn)生離心力，而恰恰是加速度對光刻膠產(chǎn)生扭力（twisting force）,這個(gè)扭力使光刻膠在已有圖形的周?chē)㈤_(kāi)，這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。

Spin Processor旋涂勻膠機技術(shù)參數