Ossila紫外臭氧清洗機

紫外臭氧清洗機（UVO）

目前紫外臭氧清洗機的主要應用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì)。

v 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE，對有機物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用，以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物），獲得超潔凈的表面。

v 表面UV光改質(zhì)：利用紫外光照射有機表面，在將有機物分解的同時(shí)，254nm波長(cháng)的紫外光被物體表面吸收后，將表層的化學(xué)結構切斷，光子作用產(chǎn)生原子氧會(huì )與被切斷的表層分子結合，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），從而提高表面的浸潤性。

主要應用：

• 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過(guò)濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。

• 微電子產(chǎn)品的表面清洗：微型馬達軸,磁頭驅動(dòng)架,光盤(pán),光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話(huà)器震膜,半導體硅片,掩膜版。

• 精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結墊的清洗。

• 在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車(chē)部件，透鏡保護膜,塑料薄膜,樹(shù)脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導管的表面改型等。

• 科研過(guò)程的表面清洗及處理：半導體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學(xué)等。

產(chǎn)品特點(diǎn)

• 成本低；

• 120x120mm樣品臺；

• 大處理樣品高14mm；

• 抽屜式樣品臺，簡(jiǎn)單方便；

• 樣品臺自動(dòng)安全開(kāi)關(guān),打開(kāi)UV自動(dòng)關(guān)閉，防止對人身傷害；    

• 
  

• UVO顯示器

• LCD屏顯示“已用時(shí)間"和“剩余時(shí)間"；

• 60分鐘定時(shí)器；

• 高強度UV燈源；

• 可控溫的樣品臺；

• 樣品清洗無(wú)需溶劑；

• 超凈表面。

UVO樣品托盤(pán)

二、技術(shù)參數

在紫外線(xiàn)臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質(zhì)上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。